Nanoscribe成立于2007年，是一家總部位于德國卡爾斯魯厄的高精度雙光子微納加工系統(tǒng)制造商。公司具有卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景，并得到了卡爾蔡司公司的支持。

2023年11月15日，據(jù)資源庫了解，該公司推出了一項創(chuàng)新的3D微加工技術——雙光子灰度光刻（2GL），其原理是利用激光束和高速振鏡的高頻同步來進行單體素調諧，從而在光學質量方面實現(xiàn)出色的微納加工特征和結構。

該技術巧妙地結合了雙光子聚合（2PP）的高分辨率和獨特的專利體素調整工藝，顯著減少了打印層數(shù)，從而使2GL成為基于2PP的3D打印技術中最快的一種。它為新的應用開辟了道路，例如在更短的打印時間內制造質量更高、更加精細的微光學系統(tǒng)。

目前，Nanoscribe的Quantum X 3D打印機已經(jīng)集成了擁有該雙光子灰度光刻技術，可用于光學級2D和2.5D微納米結構的增材制造。如今，Nanoscribe通過引入2GL，將體素調整技術帶入了3D打印，成為Quantum X中對齊雙光子光刻（A2PL）功能的重要補充。

精度更高

打印過程依賴于激光功率的實時動態(tài)調整，同時以最高速度進行掃描。這會導致聚合體素的精確尺寸調整，以“完美”匹配任何3D形狀的輪廓。2GL技術能夠在打印場邊界動態(tài)調整激光劑量，以補償化學誘導的光敏聚合物收縮和定位缺陷。

Benchy船的左側部分是2GL 3D打印的，右側部分采用傳統(tǒng)的基于2PP的3D打印制成。

Quantum X設備專為微型光學元件的打印進行了優(yōu)化，具有高精度定位組件和自校準程序可以實現(xiàn)拼接相鄰的打印區(qū)域，在制造更大結構的同時保證出色的打印精度。此外，Quantum X還具有自動傾斜補償功能，可以避免在傾斜的襯底上有拼接縫隙或階梯效應。

速度更快

2GL 3D打印是市場上最快的基于2PP的微加工技術之一。其動態(tài)體素調整需要顯著更少的打印層來實現(xiàn)光學級、光滑和納米結構表面的打印結果。

這意味著目前任何基于2PP的3D打印機都無法達到制造速度，在滿足嚴格的打印質量要求的同時（取決于設計，與相同的打印質量相比），其吞吐量是替代雙光子光刻系統(tǒng)的10至60倍。

應用更廣

2GL的3D打印能夠制造具有光學質量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得。憑借全新水平的制造質量和速度，2GL 3D打印為推動自由空間微光耦合(FSMOC)的工業(yè)化提供了支持，成為光子學封裝和集成中高度穩(wěn)健且高效的光耦合解決方案。

2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。目前，該技術已經(jīng)在硅片上3D加工、光纖端面加工和硅光芯片上的3D加工都有所應用。

與Nanoscribe的技術不同，國內的摩方精密采用的面投影微立體光刻（PμSL）技術同樣可以進行微納3D打印的制造，可應用于精密醫(yī)療器械、電子器件、微流控、微機械等眾多工業(yè)及科研領域。

Nanoscribe成立于2007年，是一家總部位于德國卡爾斯魯厄的高精度雙光子微納加工系統(tǒng)制造商。公司具有卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景，并得到了卡爾蔡司公司的支持。

2023年11月15日，據(jù)資源庫了解，該公司推出了一項創(chuàng)新的3D微加工技術——雙光子灰度光刻（2GL），其原理是利用激光束和高速振鏡的高頻同步來進行單體素調諧，從而在光學質量方面實現(xiàn)出色的微納加工特征和結構。

該技術巧妙地結合了雙光子聚合（2PP）的高分辨率和獨特的專利體素調整工藝，顯著減少了打印層數(shù)，從而使2GL成為基于2PP的3D打印技術中最快的一種。它為新的應用開辟了道路，例如在更短的打印時間內制造質量更高、更加精細的微光學系統(tǒng)。

目前，Nanoscribe的Quantum X 3D打印機已經(jīng)集成了擁有該雙光子灰度光刻技術，可用于光學級2D和2.5D微納米結構的增材制造。如今，Nanoscribe通過引入2GL，將體素調整技術帶入了3D打印，成為Quantum X中對齊雙光子光刻（A2PL）功能的重要補充。

精度更高

打印過程依賴于激光功率的實時動態(tài)調整，同時以最高速度進行掃描。這會導致聚合體素的精確尺寸調整，以“完美”匹配任何3D形狀的輪廓。2GL技術能夠在打印場邊界動態(tài)調整激光劑量，以補償化學誘導的光敏聚合物收縮和定位缺陷。

Benchy船的左側部分是2GL 3D打印的，右側部分采用傳統(tǒng)的基于2PP的3D打印制成。

Quantum X設備專為微型光學元件的打印進行了優(yōu)化，具有高精度定位組件和自校準程序可以實現(xiàn)拼接相鄰的打印區(qū)域，在制造更大結構的同時保證出色的打印精度。此外，Quantum X還具有自動傾斜補償功能，可以避免在傾斜的襯底上有拼接縫隙或階梯效應。

速度更快

2GL 3D打印是市場上最快的基于2PP的微加工技術之一。其動態(tài)體素調整需要顯著更少的打印層來實現(xiàn)光學級、光滑和納米結構表面的打印結果。

這意味著目前任何基于2PP的3D打印機都無法達到制造速度，在滿足嚴格的打印質量要求的同時（取決于設計，與相同的打印質量相比），其吞吐量是替代雙光子光刻系統(tǒng)的10至60倍。

應用更廣

2GL的3D打印能夠制造具有光學質量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得。憑借全新水平的制造質量和速度，2GL 3D打印為推動自由空間微光耦合(FSMOC)的工業(yè)化提供了支持，成為光子學封裝和集成中高度穩(wěn)健且高效的光耦合解決方案。

2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。目前，該技術已經(jīng)在硅片上3D加工、光纖端面加工和硅光芯片上的3D加工都有所應用。

與Nanoscribe的技術不同，國內的摩方精密采用的面投影微立體光刻（PμSL）技術同樣可以進行微納3D打印的制造，可應用于精密醫(yī)療器械、電子器件、微流控、微機械等眾多工業(yè)及科研領域。